La emisión electrónica Auger ye un fenómenu físicu nel cual la desapaición d'un electrón internu d'un átomu causa la emisión d'un segundu electrón. El segundu electrón emitíu ye llamáu electrón Auger.

Historia editar

La emisión Auger foi afayada en 1920 por Lise Meitner, física de nacionalidá austriaca, que lo reportó en 1923 na revista Zeitschrift für Physik. Subsecuentemente Pierre Victor Auger, físicu francés, tamién afaya'l procesu que reporta na revista Radium en 1925. La mayor influencia de la segunda revista dio de resultes que Auger sía'l nome dau al fenómenu.

El procesu d'emisión editar

 
La siguiente figura amuesa una transición Auger KLL. El primer electrón foi quitáu de la capa K. Un electrón L baxa a ocupar la vacante y l'escesu d'enerxía ye trasferido a un segundu electrón L, que ye emitíu del átomu.

Cuando un electrón ye arrincáu d'una de les capes internes d'un átomu, dexando una vacante o buecu, un electrón d'un nivel d'enerxía esternu puede cayer nesta vacante, resultando nun escesu d'enerxía. Esti escesu d'enerxía ye frecuentemente lliberada pola emisión d'un fotón (fluorescencia de rayos X), anque tamién puede ser tresferida a otru electrón, que ye emitíu del átomu. La enerxía del electrón Auger correspuende a la diferencia ente la enerxía de la transición electrónica primaria y la enerxía d'ionización pa la capa de la cual l'electrón Auger foi emitíu. Esos niveles electrónicos dependen del tipu d'átomu y del ambiente químico nel cual atopábase l'átomu.

La enerxía cinética del electrón Auger espulsáu depende puramente de los trés niveles d'enerxía arreyaos nel procesu:

 

onde

  •   ye la enerxía del átomu con una vacante nun nivel internu. Este ye un estáu altamente inestable.
  •   ye la enerxía del nivel enerxéticu ocupáu pol segundu electrón.
  •   ye la enerxía del electrón que va ser espulsáu nel efeutu Auger.
  •   ye la función trabayo. Ye la enerxía necesaria por que el electrón dexe la superficie del sólidu.

Espectroscopia electrónica Auger editar

La espectroscopia d'electrones Auger ye una téunica analítica usada na ciencia de superficies y na ciencia de materiales. Basar nel procesu emisión Auger per mediu del bombardéu d'una muestra con rayos X o electrones enerxéticos nel rangu de 2-50 keV.

Referencies editar

  • Sotu, G; Díaz J A; de la Cruz W. (2003). «Copper nitride films produced by reactive pulsed laser deposition». Materials Letters 57 (26-27). pp 4130-4133. 
  • Sotu, G; de la Cruz W; Farias MH (2004). «XPS, AES, and EELS characterization of nitrogen-containing thin films». Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena 135 (1). pp 27-39.